17 Леонова Татьяна Михайловна Кастро Арата Рене Алехандро МДП-структура МOS-structure oxide layer dielectric parameters оксидный слой диэлектрические параметры 2012 2023-07-10 Известия Российского государственного педагогического университета им. А.И. Герцена Экспериментально исследованы диэлектрические свойства структур металл - диэлектрик - полупроводник на основе слоев оксида алюминия, полученных методом молекулярного наслаивания с использованием различных реагентов. Обнаружено, что применение азотной кислоты при получении диэлектрического слоя приводит к увеличению диэлектрической проницаемости, к увеличению диэлектрических потерь и к смещению их максимума в область более низких частот. Кроме того, выявлено уменьшение проводимости и увеличение энергии активации. Установленные закономерности объясняются структурными особенностями слоев, полученных в разных технологических условиях https://rep.herzen.spb.ru/publication/2809