<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Рабчанова Татьяна Юрьевна</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Исследование примесных атомов олова в аморфном кремнии</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>impurity atoms</keyword>
    <keyword>Mössbauer emission spectroscopy</keyword>
    <keyword>amorphous silicon</keyword>
    <keyword>примесные атомы</keyword>
    <keyword>мессбауэровская спектроскопия</keyword>
    <keyword>аморфный кремний</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2013</year>
    <pub-dates>
     <date>2023-07-10</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <abstract>Методом мёссбауэровской спектроскопии на изотопе 119 Sn изучено состояние примесных атомов олова в аморфном a-Si кремнии. Исследованы электрические и оптические свойства легированных оловом пленок термически напыленного аморфного кремния. Показано, что, в отличие от кристаллического кремния, в котором олово является электрически неактивной примесью замещения, в термически напыленном аморфном кремнии оно создает полосу акцепторных состояний вблизи валентной зоны. При этом часть атомов олова оказывается в заряженном состоянии.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://rep.herzen.spb.ru/publication/2680</url>
    </web-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
