Ссылка для цитирования по ГОСТ

Борисова Т., Кастро А. Влияние режима синтеза оксидного слоя на диэлектрические свойства структур Si/Al 2O 3/Al // Известия Российского государственного педагогического университета им. А.И. Герцена. 2013 №154. С.53-64.